2. Lithografie-Kolloquium „QUO VADIS SAXA LOQUUNTUR“

Ulla Wallbach, Leiterin der Werkstatt für Lithografie und Tiefdruck an der Kunsthochschule Kassel, war Rednerin beim 2. Lithographie-Kolloquium „QUO VADIS SAXA LOQUUNTUR“, das vom 4. bis 6. April 2024 in Offenbach am Main stattfand.

Auf dem Programm des von der Internationalen Senefelder-Stiftung veranstalteten Netzwerktreffens standen neben Fachvorträgen und der Vorstellung der Aktivitäten in Werkstätten, Forschung und Lehre auch Diskussionen über Zukunftsperspektiven und zum Diskurs um die zukünftigen Perspektiven des Steindrucks. Erfahrungsberichte aus den grafischen Werkstätten und Druckgrafikwerkstätten, der Kunsthochschulen in Dresden, Leipzig, Wroclaw, Porto, Barcelona und der Kunsthochschule Kassel sowie Vorträge von internationalen Referierenden, die die unterschiedlichen Herangehensweisen mit dem druckgrafischen Medium und der Anwendung der Lithografie in den eigenen Arbeiten zeigten, prägten die Veranstaltung.

In Ulla Wallbachs Vortrag „Assemblages, die Versammlung der Probedrucke“ ging es um die Weiterverwendung der Probedrucke zu Collagen.